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脈沖激光沉積、分子束外延薄膜制備系統(tǒng)

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      薄膜制備領導者
     

    BlueWave是一家著名的美國半導體設備、材料生產商。BlueWave提供多種薄膜制備系統(tǒng)，包括脈沖激光沉積(PLD)、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)、反應濺射、熱絲化學氣相沉積(HFCVD)、熱化學氣相沉積系統(tǒng)(TCVD)。這些系統(tǒng)是最理想的薄膜與涂層合成設備?？芍苽涞谋∧ぐǖ铩⒀趸?、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料。Blue Wave還提供相關系統(tǒng)配件，例如基片加熱裝置、原位監(jiān)測工具。此外，BlueWave還為您提供標準的薄膜以及材料涂層，例如氧化物涂層、導電薄膜、無定型或納米晶Si/SiC、晶體AlN-GaN、聚合物、納米鉆石、HFCVD鉆石涂層以及器件加工。

    1、脈沖激光沉積系統(tǒng)

    產品特點：
    • 超高真空不銹鋼腔體
    •可集成熱蒸發(fā)源或濺射源
    •可旋轉的耐氧化基片加熱臺
    •流量計或針閥精確控制氣體流量
    •標準真空計
    •干泵與分子泵
    •可選配不銹鋼快速進樣室
    •可選配基片-靶材距離自動控制系統(tǒng)
    •是金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬納米薄膜、多層膜、超晶格的最佳設備
     
     
    2、物理氣相沉積系統(tǒng)（Physical Vapor Deposition Plus ）
    產品特點
    •     超高真空不銹鋼腔體       • 電子束、熱蒸發(fā)、脈沖激光沉積可集成
    • 獨立襯底加熱，可旋轉
    • 多量程氣體流量控制器
    • 標準氣壓計
    • 機械、分子、冷凝真空泵   • 可選不銹鋼快速進樣室
    • 襯底和源距離可控
    • 可用于金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬薄膜

       
    3、熱化學氣相沉積系統(tǒng)（TCVD）
    產品特點
    • 高溫石英管反應器設計
    • 溫度范圍：室溫到1100度
    • 多路氣體精確控制
    • 標準氣壓計
    • 易于操作
    • 可配機械泵實現(xiàn)低壓TCVD   • 可用于制備金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬薄膜
    • 液體前驅體噴頭
    • 2英寸超大完美溫度均勻區(qū)
     
    4、熱絲化學氣相沉積系統(tǒng)（HFCVD）
    產品特點：
    • 水冷不銹鋼超高真空腔
    • 熱絲易安裝、更換 
    • 4個不同量程氣體控制器
    • 標準氣壓計
    • 襯底與熱絲距離可調節(jié)
    •2 英寸襯底加熱、可旋轉 
    • 完美制備金剛石和石墨烯 
    		 

     

        
    5、薄膜/涂層制備服務
     
    產品特點 
    • 為您制備您所需的薄膜或涂層，避免您在設備或制備過程上的投資。
    • 快速實現(xiàn)您的科研設想
    • 龐大的備選材料庫，選擇最適合您的材料
    • 多種薄膜制備手段可供選擇，包括：PLD、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)、Hot Filament CVD、MOCVD
    無論您需要絕緣涂層、透明涂層、金屬薄膜或頂電極我們廣闊的材料庫均能滿足您的需求。我們還為您提供特殊的涂層定制服務。
    我們有超過20年的鍍膜經驗，我們已與多所大學與國家實驗室合作，成為鍍膜服務行業(yè)的領導者。
     

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