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和茂儀器
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小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)

  •   小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)是英國(guó)Durham Magneto Optics公司專為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)開發(fā),為微流控、SAW、半導(dǎo)體、自旋電子學(xué)等研究領(lǐng)域提供方便高效的微加工方案。

     

      傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應(yīng)商 提供,但是在研發(fā)環(huán)境中,掩膜板的設(shè)計(jì)通常需要經(jīng)常改變。 無(wú)掩膜光刻技術(shù)通過(guò)以軟件設(shè)計(jì)電子掩膜板 的方法,克服了 這一問(wèn)題。與通過(guò)物理掩膜板進(jìn)行光照的傳統(tǒng)工藝不同,激光 直寫是通過(guò)電腦控制一系列激光脈沖的開關(guān),在光刻膠上直接 曝光繪出所要的圖案。

      Microwriter ML 3 是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng),具有 結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm),無(wú)掩膜直寫系統(tǒng)的靈 活性,還擁有高直寫速度,高分辨率的特點(diǎn)。采用集成化設(shè) 計(jì),全自動(dòng)控制,可靠性高,操作簡(jiǎn)便。適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌 面。

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    產(chǎn)品特點(diǎn)  

    Focus Lock 自動(dòng)對(duì)焦功能

    Focus lock 技術(shù)是利用自動(dòng)對(duì)焦功能對(duì)樣品表面高度進(jìn)行探測(cè),并通過(guò) Z 向調(diào)整和補(bǔ)償,以保證曝光分辨率。

    光學(xué)輪廓儀

    Microwriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測(cè)工具,用于勻膠后沉積層,蝕刻層, MEMS 等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測(cè)與套刻。 Z 向最高精度 100 nm ,方便快捷。

     

    標(biāo)記物自動(dòng)識(shí)別

    點(diǎn)擊“ Bulls-Eye” 按鈕, 系統(tǒng)自動(dòng)在 顯微鏡圖像中識(shí)別光刻 標(biāo)記。標(biāo)記 物被識(shí)別后,將 自動(dòng)將其移動(dòng) 到顯微鏡中心位置。

    別直寫前預(yù)檢查

    軟件可以實(shí)時(shí) 顯微觀測(cè)基體 表面,并顯示 預(yù)直寫圖形 位置。通過(guò)實(shí)時(shí)調(diào)整 位置、角度,直到設(shè)計(jì)圖形按要求與已有結(jié)構(gòu) 重合,保證直寫準(zhǔn)確。

    簡(jiǎn)單的直寫軟件

    MicroWriter 一個(gè)簡(jiǎn)單直觀的 Windows 界面軟件控制 。工具欄 會(huì)引導(dǎo)使用者進(jìn)行簡(jiǎn)單的布局設(shè)計(jì)、基片對(duì)準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在 Windows10 系統(tǒng)下 運(yùn)行 。

     

    Clewin 掩模圖形設(shè)計(jì) 軟件

    可以讀取多種 圖形設(shè)計(jì) 文件( DXF, CIF, GDSII, 等

    可以 直接 讀取 TIFF, BMP 圖片 格式

    書寫范圍只由基片尺寸決定

     

     

    產(chǎn)品參數(shù)
     
    Microwriter ML3 基本型 增強(qiáng)型 旗艦型
     最大樣品尺寸 155×155×7mm 155×155×7mm 230×230×15mm
     最大直寫面積 149mm x 149mm 149mm x 149mm 195mm x 195mm
     曝光光源 405 nm LED 1.5W 405 nm LED 1.5W 385 nm LED 適用于SU-8   (365+405nm雙光源可選)
     直寫分辨率 1μm 1μm and 5 μm 0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm
     直寫速度 20 mm 2 /m in @ 1μm 2 0mm 2 /min @ 1μm   120mm 2 / min @ 5μm 25mm 2 /min @ 0.6μm   50mm 2 /min @ 1μm   100mm 2 /min @ 2μm   1 80mm 2 /min @ 5μm
     對(duì)準(zhǔn)顯微鏡鏡頭 x10 x3 and x10 自動(dòng)切換 x3, x5, x10, x20 自動(dòng)切換
     多層套刻精度 ±1μm ±1μm ±0.5μm
     最小柵格精度 200nm 200nm 100nm
     樣品臺(tái)最小步長(zhǎng) 100nm 100nm 50nm
     光學(xué)輪廓Z分辨率 無(wú)(可升級(jí)) 300nm 100nm
     樣品表面自動(dòng)對(duì)焦
     灰度直寫(255級(jí))
     自動(dòng)晶片檢查工具 無(wú)(可升級(jí))
     溫控樣品腔室 無(wú) (可升級(jí)) 無(wú) (可升級(jí))
     虛擬模板校準(zhǔn)工具 無(wú)(可升級(jí)) 無(wú)(可升級(jí))
     氣動(dòng)減震光學(xué)平臺(tái) 無(wú)(可升級(jí)) 無(wú)(可升級(jí))
     
    應(yīng)用案例  

    直寫分辨率1μm

      

    直寫分辨率0.6μm

     

      微電極制備

           光刻膠上的圖形                                 Au電極(SEM)                                   Au電極(SEM)

         

           設(shè)計(jì)圖                                                  光刻膠上的圖形                                        放大圖的顯微結(jié)構(gòu)
          

     

    微結(jié)構(gòu)制備

       

     

       

     

    微流通道制備

       

     
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     產(chǎn)品資料下載: Microwriter ML3

     

     

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